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InvertMask 蒙版透明度反相与选区反转节点

节点核心功能 (What is it?)

InvertMask 节点用于对输入的黑白或透明蒙版执行反相运算。它能够将透明度或灰阶数值完全翻转——原先不透明(白色/高 Alpha)的选区区域转变为透明(黑色/低 Alpha),而原先透明的区域则转变为完全不透明。这在构建互补双重蒙版、正反选区切换以及精细化局部重绘合成中至关重要。

典型适用场景 (When would I use it?)

在以下情况下使用该节点:

  • 生成已有蒙版的完全相反对立版本;
  • 在前景保护选区与背景编辑选区之间一键自由切换;
  • 翻转透明度通道的作用方向;
  • 为双图层抠图与多图层高级合成准备互补匹配的蒙版资产;
  • 在自动化 AI 局部重绘(Inpainting)工作流中快速翻转遮罩范围。

使用指南 (How to use it)

基础配置流程 (Basic Setup)

  1. 在工作流画布中添加 InvertMask 节点。
  2. 将蒙版数据源(如来自 DisplayMask 或 PaintMask)接入 input_mask 输入插槽。
  3. 在 output_mask 引脚即可提取完成翻转后的全新反相蒙版。

参数输入插槽 (Parameters)

  • input_mask:待执行反向反转的源蒙版资产(支持接入任意蒙版提取或手绘蒙版节点)。

输出引脚 (Outputs)

  • output_mask:原输入蒙版经过数值对调反相后的全新蒙版工件(ImageArtifact)。

典型工作流示例 (Example)

常见的正反向蒙版协同流水线:

  1. 使用 PaintMask 手工绘制或使用 DisplayMask 从主体抠图中提取前景蒙版。
  2. 将该蒙版连入 InvertMask 节点的 input_mask 参数。
  3. InvertMask 瞬间输出反向背景蒙版。
  4. 将 output_mask 接入 DisplayImage 进行可视化检查,或直接引至局部重绘生成节点的遮罩插槽中对背景进行扩散重绘。

关键技术特性 (Important Notes)

  • 明暗反相逻辑 (Inversion Logic):输入蒙版中的纯白区域(数值 255)反转为纯黑(数值 0),纯黑区域反转为纯白,灰色过渡带对称翻转。
  • 透明通道专用处理 (Alpha Channel Handling):对于 RGBA 图像资产,节点将精确定位并反转其 Alpha 透明度通道。
  • 色彩模式自动转灰度:若输入带有色彩的 RGB 图片,节点会预先将其转换为标准单通道灰度(Luminance)后再实施反转。
  • 极速响应 (Real-time Processing):上游引脚数据发生变动时立即触发毫秒级重算。
  • 无损 PNG 编码保存:反转后的蒙版以无损 PNG 保存,杜绝噪点干扰。

常见问题与排查 (Common Issues)

  • 无输出蒙版:检查上游蒙版节点是否正常产生了数据流,且连线已正确接入 input_mask。
  • 作用结果完全颠倒:请牢记该节点的功能正是“选区对调”——原先保留的区域会被剔除,原先剔除的区域会被保留。
  • 彩色图输入后的变化:输入彩色素材会被自动灰度化,彩色通道数据不会作为色彩单独保留。

底层技术执行原理 (Technical Details)

节点根据输入蒙版的底层存储模式进行精准分支运算:

  • RGBA 模式:保留原始色彩分量,仅对 Alpha 遮罩通道执行 $\text{Alpha}{\text{new}} = 255 - \text{Alpha}$。}
  • Grayscale (L 单通道灰度模式):直接对各像素应用标量反转矩阵:$V_{\text{new}} = 255 - V_{\text{orig}}$。
  • 其他彩色模式:先通过亮度加权公式转为灰度图,再统一应用 $255 - \text{value}$ 的标量反转。